DHM®-R2200 是按照三波长激光源的规格设计的,拥有亚纳米级分辨率,动态可测垂直台阶高度达到了12 μm,对于连续表面动态可测高度同样为200 µm。
DHM®-R2200 系列全息显微镜在实时测量方面达到了一个全新的高度。创新的光路设置包括了共用的物光光路以满足三光源配置。三个光源允许使用两组不同的双光源组合,也就是说有两个不同波长的合成光源供选择:
动态可测垂直台阶高度范围增加到了12 μm
可以自由切换使用单、双激光源进行实时测试
Mapping算法保证在可测垂直台阶高度范围内的亚纳米测量精度
使用双光源测量与单光源同样的便利性
DHM®-R2200 系列除了拥有三光源,在其他方面与DHM®-R2100系列有着同样的特点和功能。 DHM®-R2200 系列能够使用相机同时记录两束光分别产生的干涉条纹并投射到同一幅全息图上,之后还能对两束光分别进行数字重建。 两束光源产生的合成波长使得动态可测垂直台阶扩展到了12 μm,这些过程均在视频速率下完成。
使用三光源系统与使用单光源系统相比一样便利。视不同被测样品情况,使用者可以自由切换使用单/双光源模式以获取不同可测台阶范围。
DHM®-R2200系列配置的第三光源用来与另外两个光源结合使用。 因此在双光源使用模式下拥有一个短合成光波长和长合成光波长,进一步拓宽了动态测试范围。DHM®-R2200系列的两种合成波长分别为6 μm 和30 μm,对于动态可测垂直台阶高度分别为2.1 μm和12 μm。
另外,通过结合单光源与合成光源的测量数据,在单光源模式下的亚纳米垂直测量精度能够利用功能强大的Mapping算法适用到双光源模式。
由于测量和图像抓取速率快,DHM® 可以有效避免环境振动对测量带来的影响,防止出现图像模糊的情况。实时显示的三维动态形貌保证了DHM® 使用的便利高效,而测量可以通过垂直相干扫描模式增加到厘米量级。
DHM® 双光源的原理
R2200 系列提供两组双光源测试模式,光源 λ_1 和光源λ_2将产生一个长合成波长Λ光源,在保持亚纳米级精度的同时,将动态可测垂直台阶高度增加到了12 μm,而对于连续表面动态可测高度同样为200 µm。另外,光源 λ_1 和光源λ_3也可以合成一个短合成波长Λ光源,在保持亚纳米级精度的同时,将动态可测垂直台阶高度增加到了2.1 μm。合成光源波长计算公式如下:
Λ= (λ1 x λ2) / |λ1 – λ2| , Λ≫λ1, λ2
or
Λ= (λ1 x λ3) / |λ1 – λ3| , Λ≫λ1, λ3
Mapping算法保证在可测垂直台阶高度范围内的亚纳米测量精度,每个光源也可以各自单独使用。